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一种快速排水清洗槽，至少包含槽体与一个导流板。其间，此槽体的底部至少包含一个排水孔，且导流板固定在排水孔上方的槽体内。此导流板可用以将槽体内的流场从大喷流转变成小喷流，而消除晶圆张贴效应。（*该技能在2014年维护过期，可自在运用*）
在半导体制作的完好过程中，晶圆的洁净度对制作的合格率有很大的影响。有鉴于此，一般必须在每一道半导体工艺进行之前，以及工艺完结之后，别的再进行一道晶圆洗净的过程，借以铲除附着在晶圆上的资料微粒和化学残留物等。现在，在晶圆洗净的程序中，快速排水清洗法是适当常见的一种晶圆清洗方法。所谓快速排水清洗法是先将放在晶圆座(Wafer Stand)上的晶圆彻底浸泡于快速排水清洗槽里的去离子水中，再快速地扫除快速排水清洗槽中的去离子水，与此同时，对晶圆座上的晶圆喷洒去离子水，用于冲刷晶圆。一般，在多槽式(Multi-bath)的湿式机台(WetBench)上，晶圆于每一化学液槽程序后，一般会紧接着快速排水清洗槽过程，借以去除上一道工序中，沾附于晶圆上的工艺微粒和化学残留物。请参照图1，图1为现有的快速排水清洗槽的剖面示意图。晶圆106、晶圆10
一种快速排水清洗槽，其特征是至少包含：槽体，其间该槽体至少包含一个坐落该槽体底部排水孔；以及一个使该槽体的排出喷流场转变成均匀流场的导流板，其被固定在该排水孔上方的该槽体上。
1.一种快速排水清洗槽，其特征是至少包含槽体，其间该槽体至少包含一个坐落该槽体底部排水孔；以及一个使该槽体的排出喷流场转变成均匀流场的导流板，其被固定在该排水孔上方的该槽体上。2.根据权利要求1所述的快速排水清洗槽，其特征是该导流板包含分流板，其间该分流板上至少包含多个分流孔；多个衔接部别离固接在该分流板的两边，且该些衔接部从该分流板的底部向下杰出；多个滑轨，其间该些滑轨与该些衔接部接合而固定在该分流板的该些侧的下方，且该些滑轨与该分流板的该底部之间构成活动空间；多个弹性部别离坐落该些滑轨的两头，且该些弹性部可活动于该活动空间中，以调整该导流板的长度；以及多个调整元件，用以将该些弹性部固定在该分流板与该些滑轨之间。3.根据权利要求2所述的快速排水清...
